產(chǎn)品用途

1kg真空甩帶爐

真空甩帶爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應(yīng)爐的全部特點(diǎn)外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究。

主要特點(diǎn)

1·爐體全不銹鋼設(shè)計(jì)，外形美觀大方，*生銹。

2·采用立式側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)新穎，裝卸料方便，操作直觀。

3 .配置大口徑觀察窗，可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)的冶煉情況

3·冶煉溫度高，溫度可1700度以上，

4·采用IGBT高頻電源，*，熔煉效果好。

5·采用兩級(jí)控制系統(tǒng)真空度高，可達(dá)5.0*10-3pa

6  配有觸摸屏，控制數(shù)據(jù)直觀顯示，操作直觀簡潔

7. 甩帶系統(tǒng)采用伺服電機(jī)控制，克服普通變頻電機(jī)抖動(dòng)，電機(jī)轉(zhuǎn)速不穩(wěn)的難題。

8. 擴(kuò)展性強(qiáng)，可增加噴鑄澆鑄功能

9. 配置銅滾自車系統(tǒng)，改善銅滾表面不光滑，拆卸不方便的不便局面

技術(shù)參數(shù)

1.設(shè)備總功率：35Kw；

2.電源電壓：3相380V,50Hz

3.真空度：優(yōu)于5×10E-4Pa

4.設(shè)備容量：1000g

5.熔煉溫度500-1700

6.真空泵組：飛越機(jī)械泵 +分子泵

7.甩帶銅滾尺寸：φ300mmx40（水冷銅滾）

8.甩帶寬度：0-70mm

9.銅滾速度：0-3000r/min

10：真空腔尺寸：400×400×580mm (L*W*H)

11：控制方式：觸摸屏+plc

產(chǎn)品規(guī)格

1. 外形尺寸：1620*960*1780m（L*W*H）

2. 設(shè)備總重量：500Kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1.高真空腔體 1套

2.熔煉裝置 1套

3.感應(yīng)線圈  2套

4.甩帶裝置  1套

5.甩帶收集裝置 1件

6.石英坩堝   2套

7.高頻電源    1套

8.甩帶氣動(dòng)升降裝置 1套

9.測(cè)溫裝置   1套

10.噴鑄氣動(dòng)升降裝置 1套

11·循環(huán)冷水機(jī) 1套

12.高真空系統(tǒng) 1套

13.產(chǎn)品說明書合格證 1份

可選配件

1.紅外測(cè)溫裝置

2.噴鑄銅模具

備注說明

真空系統(tǒng)可升級(jí)  可以非標(biāo)定制多種規(guī)格的真空熔煉爐